2) 5-10 см над очагом
3) 25-30 см, непосредственно над больным
4) 100 см, непосредственно над больным
Аппарат ЛИК (инфракрасная кварцевая лампа) при местном облучении устанавливают сбоку от пациента на расстоянии 50–75 см от облучаемой поверхности. Такое положение обеспечивает направленное воздействие на ограниченный участок тела и позволяет равномерно распределить тепловой поток. Инфракрасное излучение поглощается тканями с развитием поверхностного прогревания, расширением сосудов микроциркуляторного русла, улучшением местного кровообращения и уменьшением мышечного спазма и болевого синдрома.
Дистанция 50–75 см является оптимальной для безопасного дозирования процедуры с учетом мощности источника и площади поля. При уменьшении расстояния интенсивность излучения резко возрастает, поэтому повышается риск перегревания кожи, ожога и выраженной сосудистой реакции. При чрезмерном удалении лечебный эффект ослабевает, а при размещении источника непосредственно над пациентом может нарушаться равномерность облучения и увеличиваться риск воздействия на глаза.
Во время процедуры рефлектор ориентируют на облучаемую область, контролируя комфортное ощущение умеренного тепла и состояние кожи. Дозу определяют сочетанием интенсивности излучения, расстояния, продолжительности процедуры и площади поля; ориентиром служит отсутствие жжения и болезненного перегревания. Местное инфракрасное воздействие не следует смешивать с общим светолечением или ультрафиолетовым облучением, для которых применяются иные схемы расположения источника и критерии дозирования.
| Вариант светолечения | Положение источника | Основной принцип дозирования | Ожидаемый эффект | Ключевой риск при нарушении методики |
|---|---|---|---|---|
| Местное инфракрасное облучение аппаратом ЛИК | Сбоку от пациента, обычно на расстоянии 50–75 см от поля | Расстояние, мощность, время и площадь облучения | Локальное прогревание, вазодилатация, анальгезия, миорелаксация | Перегревание или ожог при чрезмерной интенсивности |
| Слишком близкое расположение источника | Около 5–10 см от кожи | Интенсивность теплового потока становится чрезмерной | Неадекватное усиление тепловой реакции | Боль, жжение, гиперемия, ожог, особенно при сниженной чувствительности |
| Размещение на расстоянии 25–30 см непосредственно над телом | Источник расположен сверху и близко к пациенту | Не соответствует стандартной геометрии местного облучения ЛИК | Неравномерное прогревание отдельных участков | Локальное превышение тепловой нагрузки и дискомфорт |
| Удаленное расположение около 100 см | Источник находится далеко; вариант над пациентом не определяет правильную методику ЛИК | Плотность потока существенно ниже, эффект зависит от мощности аппарата | Ослабление местного термического действия | Недостаточная эффективность или необходимость неоправданного увеличения времени процедуры |
| Общее инфракрасное облучение | Источник располагают так, чтобы охватить значительную площадь тела, по специальной схеме | Учитывают суммарную тепловую нагрузку и переносимость | Системное и регионарное согревание | Перегревание, слабость, головокружение, гипотензивная реакция |
| Ультрафиолетовое облучение | Положение и расстояние определяются типом аппарата и площадью поля | Доза оценивается по биологическому действию, в том числе по эритемной реакции | Фотохимический, а не преимущественно тепловой эффект | Эритема и фотоповреждение при передозировке |
Расстояние при инфракрасной терапии измеряют от излучающей поверхности рефлектора до кожи в пределах облучаемого поля. Перед началом процедуры необходимо исключить нарушение температурной чувствительности и осмотреть кожу. Глаза пациента защищают, а область воздействия периодически контролируют. Появление жжения, боли, резкого покраснения или общего недомогания требует немедленного прекращения процедуры и пересмотра дозировки.